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专利名称:介层窗的制造方法专利类型:发明专利发明人:郑培仁,李宗晔申请号:CN02141853.5申请日:20020822公开号:CN1477694A公开日:20040225
摘要:一种介层窗的制造方法,先在具有金属层的基底上形成一层介电层覆盖于金属层上。接着,利用微影与蚀刻工艺图案化介电层,直到暴露出金属层顶部,以形成介层窗开口。接着,于介层窗开口表面形成一层薄氮化钛层覆盖金属层,再于介层窗开口表面形成一钛/氮化钛阻障层。然后,于介层窗开口中填入一层导体层,以形成一介层窗插塞。
申请人:旺宏电子股份有限公司
地址:省新竹科学工业园区力行路16号
国籍:CN
代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司
代理人:王学强
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