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专利名称：面发射激光器专利类型：发明专利发明人：井上大辅
申请号：CN2020105378.X申请日：20200619公开号：CN112152082A公开日：20201229
摘要：本发明提供能够进行高速动作的面发射激光器。面发射激光器(100)具有：基板(20)；下部接触层(122)，设置在基板(20)上；半导体层的台面(30)，在下部接触层(122)上依次层叠有下部反射镜层(123)、有源层(124)、上部反射镜层(125)和上部接触层(127)；圆环状的电极(41)，设置在上部接触层(127)上；光出射窗(31)，射出电极(41)的圆环的内侧的激光，上部反射镜层(125)具有：第一区域(141)，包含电极(41)及光出射窗(31)的正下方；及第二区域(142)，包含设置有第一区域(141)的台面(30)内的第一区域(141)的周围及比台面(30)靠外侧的区域，第一区域(141)的质子的浓度比第二区域(142)的质子的浓度低。
申请人：住友电气工业株式会社
地址：日本大阪府大阪市
国籍：JP
代理机构：中原信达知识产权代理有限责任公司
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