专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：从光谱的时间序列进行特征提取以控制工艺结束点
的方法
专利类型：发明专利
发明人：冯野,普拉尚斯·库马尔,安德鲁·D·贝利三世申请号：CN201711390799.X申请日：20171221公开号：CN108281346A公开日：20180713
摘要：本发明涉及从光谱时间序列进行特征提取以控制工艺结束点的方法。方法包括访问从在训练操作期间收集的用于蚀刻工艺的光谱时间序列产生的虚拟毯。在制造晶片上运行制造蚀刻工艺，使得执行制造蚀刻工艺时，为制造蚀刻工艺产生由光谱时间序列定义的毯的部分。将制造蚀刻工艺的毯的部分与虚拟毯比较。当比较指示已达到制造晶片的期望指标时，处理制造蚀刻工艺的结束指示。一示例中，毯的部分包括当前捕获的光谱帧和至少一先前捕获的光谱帧。制造蚀刻工艺的毯的部分拟合至虚拟毯以识别在相关中使用的虚拟帧号与相关联的浮动参数来预测该指标的值。在训练期间产生的每个毯和虚拟毯由多项式定义。在训练中产生的毯的系数是虚拟毯的多项式的系数的子集。
申请人：朗姆研究公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：上海胜康律师事务所
更多信息请下载全文后查看
