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专利名称：一种干涉光刻多光束形成系统专利类型：实用新型专利
发明人：冯伯儒,张锦,蒋世磊,宗德蓉,苏平申请号：CN00244922.6申请日：20001108公开号：CN2449258Y公开日：20010919
摘要：一种干涉光刻多光束形成系统,属于对微细图形干涉光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光经扩束、空间滤波和准直之后照射到一个梯形棱镜上,经该棱镜折射形成五束在一定距离处相迭加的平行光,这些光束由区域性选择开启的快门控制,在涂有感光材料的基片上产生双光束、三光束、四光束和五光束干涉光刻图形。该系统结构简单、成本低,所产生的多光束之间的光程差小。该系统可广泛用于光电子、微电子器件、大屏幕显示器和场发射器件阵列的产生。
申请人：中国科学院光电技术研究所
地址：610209 四川省成都市双流350信箱
国籍：CN
代理机构：中国科学院成都专利事务所
代理人：张一红
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